各位專家、學者：

《知識產權法律制度研究》是國家知識產權局出版的學術性年刊，其前身為《專利法研究》，首期發行于1991年9月，由國家知識產權局條法司負責編輯。本刊以習近平新時代中國特色社會主義思想為指導，以實事求是、理論聯系實際為辦刊宗旨，重點圍繞《知識產權強國建設綱要（2021-2035）年》、加強知識產權法治保障相關內容，主要刊登知識產權理論和實踐方面的學術性論文和有關譯文，向全國知識產權理論和實務工作者提供一個思想和觀點交流的平臺。

為充分實現本刊辦刊宗旨和目標，分享各位專家學者、同仁的研究成果和實踐心得，現誠摯邀請您為本刊撰稿，為知識產權事業的發展集思廣益、建言獻策。

關于來稿的有關事項，說明如下：

1. 來稿應具有科學性、創新性和前瞻性，具有較強的理論意義或實踐意義，并具有一定的學術價值。篇幅一般不超過12000字。

對于涉及以下主題的稿件，本刊優先采用：

（1）商標法律制度專題研究

（2）地理標志法律制度研究

（3）專利法律制度專題研究

（4）知識產權基礎性法律研究

（5）集成電路布圖設計保護條例研究

（6）國際知識產權制度的發展趨勢及我國的應對策略

（7）我國知識產權制度助力新質生產力發展

（8）知識產權法律制度域外適用研究

（9）知識產權地方立法研究

（10）新領域新業態知識產權保護規則研究

2. 來稿請于2025年1月27日前以電子件發給zlfyj@cnipa.gov.cn，請勿一稿多投。

3. 自稿件發出2個月屆滿時未接到稿件采用通知的，可自行處理稿件。

4. 本刊作為匯編作品，版權屬本刊編輯部所有。

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8. 本刊一經出版，本編輯部將從速酌致稿酬，并贈送當期本刊兩冊。

國家知識產權局條法司

2024年12月3日